Książki

Album "Fotografie" Jerzego Soińskiego, wdany przez Miejskie Centrum Kultury w Ostrowcu Świętokrzyskim w 2026 roku, przy okazji wystawy. Książka to pozycja...

Album fotografii "Obraz i Dźwięk" według pomysłu Tomka Sikory i Artura Wolskiego, w którym obok fotografii Tomka Sikory pojawiają się - zapis nut i muzyka...

Kalendarz wystaw

Ładowanie kalendarza

Muzeum Współczesne we Wrocławiu zaprasza 30 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż zbiorowej dorocznej wystawy fotografii "Rzeczywistość Symultaniczna" członków Okręgu Dolnośląskiego...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż30-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyMWW Muzeum Współczesne
  • Wrocław

Galeria Obok ZPAF w Warszawie zaprasza 29 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii "W świecie z dwoma księżycami śni się inaczej…" Grupy Twórczej AKAMA. Wystawa potrwa do...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria Obok ZPAF
  • Warszawa

Białostocki Ośrodek Kultury zaprasza 28 października 2026 roku, o godz. 18.30 do Klubu Fama w Białymstoku na wernisaż wystawy fotografii Izy Ostapowicz "W trasie". Wystawa potrwa do 29 listopada...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż28-10-26 18:30
  • Miejsce wystawyKlub Fama
  • Białystok

Galeria Pusta cd w Jaworznie zaprasza 28 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii Joanny Chrząszcz "Pocztówki z Wenecji". Wystawa potrwa do 25 listopada 2026 roku. Wstęp...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż28-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria Pusta cd
  • Jaworzno

Stara Galeria ZPAF w Warszawie zaprasza 29 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż wystawy zbiorowej fotografii "Topniejąca rzeczywistość". Wystawa potrwa do 3 stycznia 2027 roku. Wstęp...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyStara Galeria ZPAF
  • Warszawa

Miejski Ośrodek Kultury w Siedlcach zaprasza 28 października 2026 roku, o godz. 18.00 do Galerii Fotografii Fokus na wernisaż poplenerowej zbiorowej wystawy fotografii Grupy Twórczej Fotogram...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria Fotografii Fokus
  • Siedlce

Galeria Pomost w Lublinie zaprasza 30 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż zbiorowej wystawy fotografii Beaty Maj "Młyny". Wstęp wolny.

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż30-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyGaleria Pomost
  • Lublin

Galeria Dymu w Krakowie zaprasza w 26 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż wystawy fotografii Mariusza Twardowskiego "Niedokończone. Moai z Rano Raraku. Rapa Nui". Wstęp wolny.

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż26-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyGaleria Dymu
  • Kraków

Regionalne Centrum Kultury w Kołobrzegu zaprasza w 27 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii Grzegorza Milewskiego "Ameryka" połączony z promocją książki "Ameryka miła...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż27-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyRegionalne Centrum Kultury
  • Kołobrzeg

Galeria im. Sleńdzińskich w Białymstoku zaprasza 30 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii Kuby Dąbrowskiego "Prequel". Wystawa potrwa do 29 listopada 2026 roku. Wstęp...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż30-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria im. Sleńdzińskich
  • Białystok
Fujifilm GF 45-100mm f/4 R LM OIS WR
|||

Firma Fujifilm przedstawiła nowy obiektyw o zmiennej ogniskowej FUJINON Lens GF45-100F4 R LM OIS WR który jest przeznaczony do średnioformatowego systemu bezlusterkowego GFX. Obiektyw trafi on do sprzedaży z końcem lutego 2020 roku..

Nowy obiektyw dołącza do istniejącej już rodziny wymiennych obiektywów GF, zaprojektowanych dla serii GFX i obejmuje jedne z najczęściej używanych przez fotografów ogniskowych. Obiektyw GF45-100 mm F4 R LM OIS WR odpowiada zakresowi ogniskowej 36-79 mm dla małoobrazkowego formatu 35 mm, przy maksymalnej wartości przysłony F4. Doskonale uzupełnia asortyment obiektywów o zmiennej ogniskowej GF: GF32-64 mm F4 R LM WR oraz GF100-200 mm F5.6 R LM OIS WR. Taki zestaw obiektywów zapewnia fotografom szeroki zakres ogniskowych, umożliwiając fotografowanie w wielu różnych tematach fotograficznych, co pozwala na jeszcze większą wszechstronność i kreatywność.

Obiektyw GF45-100 mm F4 R LM OIS WR stanowi połączenie solidnej konstrukcji z wysokiej jakości optyką. Jest niezwykle wszechstronny i idealnie nadaje się do fotografowania przyrody, krajobrazów oraz portretów. Wyposażony jest w potężną 5-osiową stabilizację obrazu, element Super ED i niemal bezgłośny, szybki silnik autofocusa. Sprawdza się w trudnych i nieprzewidywalnych sytuacjach, dzięki odpornej na kurz i warunki pogodowe konstrukcji, która pozwala na pracę w temperaturze do -10 stopni Celsjusza. Wysoka rozdzielczość i piękny efekt bokeh pozwolą na uchwycenie atmosfery każdej sceny, przedstawiającej dowolny obiekt.

Charakterystyka produktu

  • Zadziwiająca rozdzielczość obrazu i szeroka rozpiętość tonalna GF45-100 mm F4 R LM OIS WR składa się z 16 elementów w 12 grupach, w tym z trzech elementów asferycznych, jednego elementu Super ED i jednego elementu ED, co pozwala na skorygowanie aberracji sferycznej, krzywizny pola i aberracji chromatycznej. Minimalizuje to konsekwencje różnych form aberracji, takich jak przesunięcie luminancji i efekt "rozlania koloru" (ang. „color bleeding”), zapewniając zdumiewającą ostrością obrazu.
  • Lekki i kompaktowy, standardowy obiektyw o zmiennej ogniskowej GF45-100 mm F4 R LM OIS WR waży 1,005 g, przy długości 144,5 mm i średnicy 93 mm). Jest niezwykle poręczny i kompaktowy jak na 2,2-krotny zoom dla systemu kamer wielkoformatowych.
  • Szybki, cichy i bardzo dokładny autofocus Zastosowanie wewnętrznego systemu ustawiania ostrości zmniejszyło rozmiar i wagę soczewki ogniskowania. Napędzana jest ona silnikiem liniowym, co pozwala na szybkie, ciche i wyjątkowo dokładne działanie AF.
  • Doskonała stabilizacja obrazu Obiektyw wyposażony jest w pięciostopniową stabilizację obrazu (wytyczne CIPA). Daje to fotografom możliwość pełnego wykorzystania mocy przetwornika wysokiej rozdzielczości w aparacie systemowym GFX, zwłaszcza w trakcie robienia zdjęć „z ręki”.
  • Wyjątkowo solidna konstrukcja odporna na różne warunki fotografowania Obiektyw ma 11 uszczelek chroniących przed kurzem i warunkami atmosferycznymi. To pewność spokojnej pracy w trudnych warunkach, nawet w temperaturze -10 stopni Celsjusza.

Do budowy obiektywu wykorzystanie 16 elementów ułożonych w 12 grupach, w tym trzech elementów asferycznych, jednego elementu Super ED i jednego elementu ED

Sorry, this website uses features that your browser doesn't support. Upgrade to a newer version of Firefox, Chrome, Safari, or Edge and you'll be all set.